请教激电中梯，激电扫面等问题

dxw-lt

求教高手，本人对物探一窍不通，但是工作中会遇到这些问题。
电法勘探中有激电中梯，激电扫面等。这些方法的目的和功能有什么区别呀。
还有复电阻率测量，结果中都有电阻率和充电率异常。内容都差不多，工作中为什么还要都做呢？？？
万分感谢高手扫盲。

wutb77

激电中梯是目前找多金属矿常用的方法，也是很老的方法了，一般扫面和剖面都用，装置简单，效率比较高。  一次测量可以同时获得视充电率和视电阻率两个数据，一般有矿的就反应为低阻高极化或者高阻高极化，要结合看。我是一般看划出视极化率异常，再对应视电阻率异常来解释。。。不过也是个新手啦。

nxg198688

二楼正解，另外做不同方法是为了相互补充，验证异常和排除干扰！

934934

支持二楼和三楼！

wlmq110303

我的天哪 你真是高级工程师吗  即使你是地质工程师 这些物探常识都应该懂的  不是一般的外行！

fu0000

应该找本启蒙的书看看，这么讲是讲不明白的

dxw-lt

wutb77 发表于 2011-7-8 14:58
激电中梯是目前找多金属矿常用的方法，也是很老的方法了，一般扫面和剖面都用，装置简单，效率比较高。  一 ...

谢谢你的讲解！！

am1987

好问题，还有没有要补充的啊？！

wwbaobie

:L