高强耐摩擦性磨抛光合成新材料研制成功

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来源：中国地质调查局网站（2011年10月31日）

       近日，从武汉地调中心获悉，根据物体磨抛光过程属于一种机械摩擦和物理化学共同作用的原理，武汉地调中心岩矿综合利用室自主研制出一种高强耐摩擦性抛光合成新材料。该新材料的主要技术特点是：采用特殊工艺处理方法改造传统材料性能；在基材组合、选料和处理过程中加入特殊配方；对混合辅料原料（化剂）进行优化组合。
       据了解，采用这种新技术研制的合成材料具有较强的耐磨擦性，经反复试验和生产试用检测，其耐摩擦性也大大提高，可有效提高功效5倍以上，同时可获得高清和光洁度极佳的效果。这种新材料对提高岩石矿物及科研制片效率和质量极为重要。
* J) x  f7 f+ n6 _) H       该新技术和新材料可应用于机械产品制造、岩矿制片工艺、石材加工和宝玉石加工等领域。下一步拟将配套和完善整个工艺流程及系列产品设计和推广应用，并申报国家专利。